Quang khắc cực tím (EUVL) – Báo cáo

Quang khắc cực tím (EUVL) là công nghệ tiên tiến sử dụng nguồn sáng 13.5 nm và là ứng cử viên hàng đầu cho nút 22 nm in thạch bản và hơn thế nữa. Tôi V in thạch bản hiện đang trong giai đoạn thử nghiệm với các công cụ 0.33-NA tại các cơ sở sản xuất chip. Sản xuất quy mô lớn dự kiến sẽ diễn ra trong tương lai gần.

EUV – Cập nhật công nghệ

Nhiều mẫu
Lắng đọng lớp nguyên tử (ALD)
hạt
Được mệnh danh là NA cao
Nền tảng NA cao, được gọi là 'EXE

Kỹ thuật in thạch bản EUV: Tiếp theo là gì?

Thách thức trong EUVL – là sự hấp thụ mạnh mẽ bức xạ EUV của tất cả các vật liệu. Điện trở EUV được cấu trúc sao cho việc in diễn ra trong một lớp hình ảnh rất mỏng trên bề mặt điện trở. Hơn nữa, vật liệu chống EUV sẽ phải phát triển cùng với sự phát triển sắp tới trong công nghệ nguồn sáng.

Về TTC
Chúng tôi liên tục xác định giá trị của công nghệ mới được thực hiện bởi đội ngũ điều hành khá lành nghề với nền tảng là chuyên gia của chúng tôi. Giống như các chuyên gia IP mà chúng tôi trao quyền, sự khao khát phát triển của chúng tôi là không bao giờ kết thúc. Chúng tôi CẢI TIẾN, THÍCH ỨNG và TRIỂN KHAI một cách chiến lược.

Bạn cũng có thể Liên hệ để thiết lập một cuộc tư vấn.

TT tư vấn cung cấp một loạt các giải pháp hiệu quả, chất lượng cao để quản lý sở hữu trí tuệ của bạn, từ Tìm kiếm bằng sáng chế, Tìm kiếm không hợp lệ, FTO (Tự do hoạt động), Tối ưu hóa danh mục bằng sáng chế, Giám sát bằng sáng chế, Tìm kiếm vi phạm, Soạn thảo & Minh họa bằng sáng chế, và nhiều hơn nữa. Chúng tôi cung cấp cho cả các công ty luật và tập đoàn trong nhiều ngành các giải pháp chìa khóa trao tay.

Tải xuống báo cáo